1.制药废气来源及危害

1.1制药废气来源

制药企业在生产过程中，会使用到一些溶点低、挥发性好的有机溶剂。此类溶剂很可能会随着生产过程挥发出来而导致污染，其排放主要发生在投料、反应、溶剂回收、过滤、离心、烘干、出料等操作单元。

1.2制药废气危害

在医药化行业中大量使用有机溶剂(如dmf、系物、有机胺、乙酯、、、、、、、、、仿等)，挥发形成了具有刺激性气味和恶臭的气体，并具有一定毒害性，长期排放必然恶化区域大气环境质量，并对附近居民的身体产生危害。因此，有效治理制药行业vocs污染已经成为亟待解决的重要问题。

2.制药废气成分及特点

2.1制药废气成分

dmf、系物、有机胺、乙酯、、、、、、、、、仿等。

2.2制药废气特点

（1）排放点多, 排放量大, 无组织排放严重。医药化工产品得率低, 溶剂消耗大, 溶剂废放点多, 且溶剂废气大多低空无组织排放, 溶剂废气浓度较高。

（2）间歇性排放多。反应过程基本上为间歇反应, 溶剂废气也呈间歇性排放。　

（3）排放不稳定。溶剂废气成分复杂, 污染物种类和浓度变化大, 同一套装置在不同时期可能排放不同性质的污染物。

（4）溶剂废气影响范围广。溶剂废气中的vocs大多具有恶臭性质, 嗅域值低, 易扩散, 影响范围广。

（5）在生产过程中易燃、易爆物质多, 反应过程激烈, 生产事故风险大。

thy-系列恶臭气体uv光解净化设备产品介绍

产品技术原理

一、本产品利用特制的高能uv紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体如：、三、化、甲、、、、和，化物h2s、voc类，、甲、二甲的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如co2、h2o等。

二、利用高能uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。uv＋o2→o-+o＊(活性氧)o+o2→o3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有很强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。

三、恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能uv紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和，再通过排风管道排出室外。

四、利用高能uv光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（dna），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的．

thy-eq系列恶臭气体uv光解废气净化设备的性能优势

㈠、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（voc）、无机物、化、气、醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达到99%，脱臭效果超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（gb14554-93）和1996年颁布的《大气污染物综合排放标准》(gb16297-1996)。

㈡、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭/工业废气通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。

㈢、适应性强：thy-系列工业废气（工业废气）uv光解废气净化设备可适应中低浓度，不同工业废气物质的脱臭、净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。

㈣、运行成本低：thy-系列工业废气（工业废气）uv光解废气净化设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻低＜50pa,可节约大量排风动力能耗。

㈤、设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。

㈥、优质进口材料制造：防火、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，采用不锈钢材质，设备使用寿命在十五年以上。

㈦、环保高科技专利产品：采用创新的环保技术理念，通过专家及我公司工程技术人员长期反复的试验，开发研制出的，具有完全自主知识产权的高科技环保净化产品，可彻底分解工业废气中有毒有害物质，可达到完全脱臭、净化效果，经分解后的工业废气，可完全达到无害化排放，不产生二次污染，同时达到高效消毒杀菌的作用。

㈧、防爆认证产品：设备具有安全、防爆特性，已通过国家防爆电器产品质量监督检验中心的ex防爆合格认证（证书编号：cnex13.0792 x），能广泛应用于采油(气)田、石油化工、制药等防爆要求高的行业。